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Guangtongxin yanjiu, Vol , Pp 23-26 (1999)
本文首次在国内报道了用ＭＣＶＤ 工艺研制出两种结构的掺Ｙｂ３ ＋ 石英光纤，包括简单梯度掺Ｙｂ３ ＋ 单模石英光纤和双包层结构掺Ｙｂ３ ＋ 石英光纤。在掺Ｙｂ３ ＋ 光纤激光实验
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https://doaj.org/article/afb550ce875d472db2776e0682d4ab17
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Guangtongxin yanjiu, Vol , Pp 36-38 (2008)
文章介绍了光纤偏振模色散（PMD）的基本概念及影响因素。通过一系列试验分析了光纤包层不圆度与PMD的关系,指出为控制光纤PMD的稳定性,提高光纤在绕盘状态下测得的PMD值的可信度,需要将
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https://doaj.org/article/973322d7f1764bdea8110b4b456c9d97
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Guangtongxin yanjiu, Vol , Pp 23-31 (1991)
近几年来,掺铒光纤放大器作为1.5μm通信窗口的光通信新器件,得到了广泛重视。掺铒光纤放大器作为功率放大器、在线中继器或前置放大器,已进入Gbit/s长中距离光通信传输实验阶段。本文介
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https://doaj.org/article/5463c245502e4842a9536f9e8b0ee123
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Guangtongxin yanjiu, Vol , Pp 45-46 (2009)
文章作者设计了大模场双包层光子晶体光纤（PCF）的波导结构,并采用自主知识产权的专利技术,在国内首次制备出了高数值孔径大模场掺镱双包层光子晶体光纤。该光子晶体光纤的内包层数
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https://doaj.org/article/e8e14daa715741b687b8f70c837fc0f2
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Guangtongxin yanjiu, Vol , Pp 39-40 (2008)
文章从理论出发设计了一种色散补偿光纤波导结构,并制备出一种高性能的色散补偿光纤。测试结果表明:该色散补偿光纤在15251625 nm波长范围内具有较大负色散,1545 nm波长的色散系数为-141 ps/
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https://doaj.org/article/c72476b412b04e538ac0b4c6febadbfa
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Guangtongxin yanjiu, Vol , p 0 (1995)
本文所建立的ＥＤＦＡ的理论模型考虑了ＡＳＥ和光纤的本征衰耗，修改了速率方程和传输方程。对泵浦光功率、信号光功率沿光纤长度的分布及ＥＤＦＡ增益特性等进行了数值解，所得结
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https://doaj.org/article/c63178f34aaf40839d10026c7d3f1d3f
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Guangtongxin yanjiu, Vol , p 0 (1994)
本文讨论了掺铒光纤放大器的应用前景，介绍了掺饵光纤的放大原理。用Ｅｒ３＋离子三能级模型进行了光纤参量的优化设计，并用ＭＣＶＤ工艺制备了性能优良的掺Ｅｒ—Ａｌ光纤。
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https://doaj.org/article/b23400a5de5d4218baf3ba8b78dd290e
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Guangtongxin yanjiu, Vol , Pp 28-39 (1986)
我们于一九八五年四月二十五日至五月八日应邀访问了意大利。访问的主要目的是参观并了解CSELT（意人利电信研究实验中心）的情况,与CSELT专家交流光纤通信测试技术方面的经验,并商定八
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https://doaj.org/article/b5cccfa5efd543ad81267f62877db372
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Guangtongxin yanjiu, Vol , Pp 11-15 (1987)
本文介绍提高MCVD法光纤预制棒生产速度及扩展光纤带宽的方法。应用该方法可使光纤的生产速度从0.5km/h提高到1.1km/h;带宽大于1GHz·km的成品率从45%提高到91%。
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Guangtongxin yanjiu, Vol , Pp 59-63 (1989)
氟已成为MCVD法中重要的掺杂剂,其作用是制备各种凹陷内包层的单模光纤。本实验证明:由于CCl2F2掺入而使折射率降低△n-,是与CCl2F2流量（或等效分压）的1/5方幕成正比;二氧化硅的沉积效率与
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