Výsledky vyhledávání

Akademický článek

切削液对金刚石线锯切割 β-Ga2O3 晶片表面质量的影响. (Chinese)

Publikováno v: Lubrication Engineering (0254-0150); 2024, Vol. 49 Issue 3, p133-142, 10p

Akademický článek

阴离子表面活性剂及复配对阻挡层抛光液性能的影响. (Chinese)

Publikováno v: Lubrication Engineering (0254-0150); 2023, Vol. 48 Issue 12, p46-54, 9p

Akademický článek

集成电路钴化学机械抛光缺陷控制的研究进展. (Chinese)

Publikováno v: Lubrication Engineering (0254-0150); 2023, Vol. 48 Issue 7, p190-197, 8p

Akademický článek

IC 铜布线抛光及后清洗中缓蚀剂BTA 吸附及去除的研究进展. (Chinese)

Autor: 王静, 高宝红, 刘世桐, 吴彤熙, 檀柏梅

Publikováno v: Electroplating & Finishing; 2022, Vol. 41 Issue 3, p203-210, 8p

Akademický článek

抑制剂在铜表面吸附机理的实验与理论研究进展. (Chinese)

Publikováno v: Electroplating & Finishing; 2021, Vol. 40 Issue 21, p1637-1645, 9p

Akademický článek

复配表面活性剂对铜CMP 后清洗中颗粒的去除. (Chinese)

Publikováno v: Electroplating & Finishing; 2021, Vol. 40 Issue 13, p1031-1036, 6p

Akademický článek

电化学测试技术在集成电路制程化学机械抛光中的应用现状. (Chinese)

Publikováno v: Electroplating & Finishing; 2021, Vol. 40 Issue 1, p54-58, 5p

Akademický článek

新型碱性清洗液对CMP后残留SiO2颗粒的去除. (Chinese)

Autor: 杨柳, 刘玉岭, 檀柏梅, 高宝红, 刘宜霖

Publikováno v: Electronic Components & Materials; may2018, Vol. 37 Issue 5, p95-106, 6p

Vyhledávací nástroje: