Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"поруваті напівпровідники"'
Publikováno v:
Eastern-European Journal of Enterprise Technologies; Том 3, № 12 (93) (2018): Materials Science; 48-55
Восточно-Европейский журнал передовых технологий; Том 3, № 12 (93) (2018): Материаловедение; 48-55
Східно-Європейський журнал передових технологій; Том 3, № 12 (93) (2018): Матеріалознавство; 48-55
Восточно-Европейский журнал передовых технологий; Том 3, № 12 (93) (2018): Материаловедение; 48-55
Східно-Європейський журнал передових технологій; Том 3, № 12 (93) (2018): Матеріалознавство; 48-55
The morphological quality criterion was developed to have a possibility of formation of nanostructured layers on semiconductor surface with adjustable properties. The layers of low-porous indium phosphide with mesoporous structure were obtained. The
Autor:
Vambol, Sergij, Bogdanov, Ihor, Vambol, Viola, Suchikova, Yana, Lopatina, Hanna, Tsybuliak, Natalia
Publikováno v:
Східно-Європейський журнал передових технологій; Том 6, № 5 (90) (2017): Прикладна фізика; 22-31
Восточно-Европейский журнал передовых технологий; Том 6, № 5 (90) (2017): Прикладная физика; 22-31
Eastern-European Journal of Enterprise Technologies; Том 6, № 5 (90) (2017): Applied physics; 22-31
Восточно-Европейский журнал передовых технологий; Том 6, № 5 (90) (2017): Прикладная физика; 22-31
Eastern-European Journal of Enterprise Technologies; Том 6, № 5 (90) (2017): Applied physics; 22-31
The method for the formation of porous gallium arsenide in a solution of hydrochloric acid was improved. The goal of present research was to establish correlation between conditions of electrochemical etching of gallium arsenide crystals and morpholo
Autor:
Vambol, Sergey, Bogdanov, Ihor, Vambol, Viola, Suchikova, Yana, Kondratenko, Olexandr, Hurenko, Olga, Onishchenko, Sergey
Publikováno v:
Eastern-European Journal of Enterprise Technologies; Том 3, № 5 (87) (2017): Applied physics; 37-44
Восточно-Европейский журнал передовых технологий; Том 3, № 5 (87) (2017): Прикладная физика; 37-44
Східно-Європейський журнал передових технологій; Том 3, № 5 (87) (2017): Прикладна фізика; 37-44
Восточно-Европейский журнал передовых технологий; Том 3, № 5 (87) (2017): Прикладная физика; 37-44
Східно-Європейський журнал передових технологій; Том 3, № 5 (87) (2017): Прикладна фізика; 37-44
A general procedure is devised to control the process of formation of porous layers on semiconductor surfaces by the method of electrochemical etching. When controlling the process of pore formation on the surface of crystal, it is necessary to consi