Effect of the Annealing Gas and RF Power Sputtering in the Electrical, Structural and Optical Properties of ITO Thin Films

Autor: F. Farhati, G. Halais, M. S. Belkaid, O. Boussoum, Charles Renard

Publikováno v: Journal of Nano and Electronic Physics
Journal of Nano and Electronic Physics, Sumy State University (Sumy, Ukraine), 2019, 11 (2), pp.02010-1-02010-7. ⟨10.21272/jnep.11(2).02010⟩

У роботі пропонується дослідити вплив нагрівання газу та RF потужності розпилення на електричні, структурні та оптичні властивості тонк

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ff2badc147e8e59807e568ebe54b1462
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02322601