Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

A Review: Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of Silicon Carbide.

Autor: Racka-Szmidt K; Łukasiewicz Research Network-Institute of Microelectronics and Photonics, Al. Lotników 32/46, 02-668 Warsaw, Poland., Stonio B; Institute of Microelectronics and Optoelectronics, Warsaw University of Technology, 75 Koszykowa Str., 00-662 Warsaw, Poland.; Center for Advanced Materials and Technology CEZAMAT, Warsaw University of Technology, 19 Poleczki Str., 02-822 Warsaw, Poland., Żelazko J; Łukasiewicz Research Network-Institute of Microelectronics and Photonics, Al. Lotników 32/46, 02-668 Warsaw, Poland., Filipiak M; Center for Advanced Materials and Technology CEZAMAT, Warsaw University of Technology, 19 Poleczki Str., 02-822 Warsaw, Poland., Sochacki M; Institute of Microelectronics and Optoelectronics, Warsaw University of Technology, 75 Koszykowa Str., 00-662 Warsaw, Poland.

Publikováno v: Materials (Basel, Switzerland) [Materials (Basel)] 2021 Dec 24; Vol. 15 (1). Date of Electronic Publication: 2021 Dec 24.