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Autor:
Heupel, Julia, Pallmann, Maximilian, Körber, Jonathan, Hunger, David, Reithmaier, Johann Peter, Popov, Cyril
Gefördert im Rahmen des Projekts DEAL
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::8c580d900759f72a6d0935723ab2ee1b
Autor:
Calvo, Jesús, Steinke, Philipp, Wislicenus, Marcus, Gerlich, Lukas, Seidel, Robert, Clauss, Ellen, Uhlig, Benjamin
Publikováno v:
AMC 2015 – Advanced Metallization Conference
Plasma induced damage of ultra low-k (ULK) dielectrics is a common phenomenon in BEOL interconnects. The damage leads to an increase in k-value, which raises the RC delay, leading to increased power consumption and cross talk noise. Therefore, divers
Organosilane Downstream Plasma On Ultra Low-k Dielectrics: Comparing Repair With Post Etch Treatment
Autor:
Calvo, Jesús, Steinke, Philipp, Wislicenus, Marcus, Gerlich, Lukas, Seidel, Robert, Clauss, Ellen, Uhlig, Benjamin
Publikováno v:
AMC 2015 – Advanced Metallization Conference
Plasma induced damage of ultra low-k (ULK) dielectrics is a common phenomenon in BEOL interconnects. The damage leads to an increase in k-value, which raises the RC delay, leading to increased power consumption and cross talk noise. Therefore, divers
Autor:
Shkurmanov, Alexander, Sturm, Chris, Lenzner, Jörg, Feuillet, Guy, Tendille, Florian, De Mierry, Philippe, Grundmann, Marius
Publikováno v:
AIP Advances 6, 095013 (2016); doi: 10.1063/1.4963076
We report the possibility to control the tilting of nanoneedles and nanowires by using structured sapphire substrates. The advantage of the reported strategy is to obtain well oriented growth along a single direction tilted with respect to the surfac
Externí odkaz:
https://ul.qucosa.de/id/qucosa%3A14959
https://ul.qucosa.de/api/qucosa%3A14959/attachment/ATT-0/
https://ul.qucosa.de/api/qucosa%3A14959/attachment/ATT-0/
Autor:
Seidel, Sarah
In der Arbeit wurden die zwei ternären Oxide GdScO3 und AlTiOx strukturell und elektrisch charakterisiert und in laterale AlGaN/GaN-MISHEMTs integriert. GdScO3 wächst hexagonal und epitaktisch bei einer Abscheidung mittels PLD bei 700°C auf einer
Externí odkaz:
https://tubaf.qucosa.de/id/qucosa%3A86881
https://tubaf.qucosa.de/api/qucosa%3A86881/attachment/ATT-0/
https://tubaf.qucosa.de/api/qucosa%3A86881/attachment/ATT-0/
Autor:
Scheidl, Alexander
Diese Arbeit beschäftigt sich mit der additiven Fertigung von Metallen und wurde in Kooperation mit der Firma HS Technik GmbH durchgeführt. Ziel war es, Werkstoffkenndaten für laserauftraggeschweißte Bauteile (Laser Cladding) zu ermitteln, um in
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_____10650::58ede1d6b7d485cfe593ac1f3ae83525
Autor:
Schreiber, Waldemar
Das epitaktische Wachstum von III-V Verbundhalbleitern aber auch von Germaniumpufferschichten auf Germaniumsubstraten bildet bspw. das Fundament zur Herstellung von Triple bzw. Multi Junction Solarzellen. Dies erfolgt mittels etablierter Verfahren, w
Externí odkaz:
https://osnadocs.ub.uni-osnabrueck.de/handle/ds-202112225743
Autor:
Schutzeichel, Christopher
The aim of this work was the development of a method for the generation of surface features on n-type silicon samples with deeply buried p-implants, in the form of heterogeneities aligned directly above the buried implants. This task was motivated by
Externí odkaz:
https://tud.qucosa.de/id/qucosa%3A75226
https://tud.qucosa.de/api/qucosa%3A75226/attachment/ATT-0/
https://tud.qucosa.de/api/qucosa%3A75226/attachment/ATT-0/
Autor:
Renate Landig, Fedor Jelezko, Helena S. Knowles, Hengyun Zhou, Joonhee Choi, Mikhail D. Lukin, Shinobu Onoda, Alexander M. Douglas, Hitoshi Sumiya, Paola Cappellaro, Soonwon Choi, Junichi Isoya, Hongkun Park
Publikováno v:
Physical Review X, Vol 10, Iss 3, p 031003 (2020)
Physical Review X
Physical Review X
Quantum metrology is a powerful tool for explorations of fundamental physical phenomena and applications in material science and biochemical analysis. While in principle the sensitivity can be improved by increasing the density of sensing particles,
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::3315a758aa1a0f1273bbd33194e76e9a
45 min Vortrag über die verschiedenen Methoden der Mikroanalytik im Bereich Titan und deren notwendige Vorbereitung in der Metallographie
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______1640::9dc0739d163ae1e24cbc85834c8b8034
https://elib.dlr.de/130450/
https://elib.dlr.de/130450/