Zobrazeno 1 - 10
of 177
pro vyhledávání: '"Komuro, A."'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics. 61:086509
The effects of pH and ionic strength on the dissolution behavior of poly(4-hydroxystyrene) (PHS) in an alkaline solution were studied to gain a fundamental understanding of the dissolution of chemically amplified resists (CARs). Tetramethylammonium h
Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics. 61:086508
Metal oxide nanocluster resists are a promising candidate for enabling the high-volume production of semiconductor devices with high-numerical-aperture extreme ultraviolet exposure tools. In this study, the sensitization mechanism of metal oxide nano
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Naoki Tanaka, Kyoko Matsuoka, Takahiro Kozawa, Takuya Ikeda, Yoshitaka Komuro, Daisuke Kawana
Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics. 61:SD1016
The dissolution behavior of a simple combination of poly(4-hydroxystyrene) films and tetramethylammonium hydroxide aqueous solution was analyzed to gain a fundamental understanding of the effects of film thickness and alkaline concentration on the di
Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics. 61:036503
Metal oxide nanocluster resists have recently attracted considerable attention for use in extreme ultraviolet lithography. To obtain sophisticated guidelines for material design, it is necessary to understand well the radiation-induced chemical react